Le camere pulite presenti nel C. R. ENEA Portici sono state realizzate negli anni 1998-1999, su specifiche ENEA, per disporre di un laboratorio con condizioni ambientali (temperatura, umidità, pulizia, ecc.) controllate, dove studiare processi per la realizzazione di dispositivi e circuiti innovativi, garantendo la minore contaminazione possibile da polvere (che può danneggiare irreparabilmente i dispositivi preparati per le piccolissime dimensioni delle strutture che li compongono). La struttura copre oltre 200 m2, suddivisi in tre zone, con classi di pulizia diverse: classe 100, classe 1000 e classe 10.000. La zona più pulita (classe 100) è suddivisa ancora in due zone, una in luce bianca e l’altra in luce gialla: nella zona in luce gialla sono lavorati materiali che non devono essere esposti a luce ultravioletta (ad es. nei processi fotolitografici). Vi sono presenti varie attrezzature: un sistema di deposizione e processo per materiali di elettronica organica, composto da un evaporatore con due camere di processo e da due glove box; un laser ad eccimeri con relativa camera di processo ed ottiche di focalizzazione del fascio; un pattern generator ottico, per scrittura diretta di resist fotolitografico; due mask-aligner per fotolitografia; un sistema per trattamenti al plasma; due evaporatori per metalli e sostanze organiche; un microscopio elettronico; un profilometro a stilo; un angolo di contatto; cappe aspirate, per lavorazioni chimiche; alcuni spin-coater; ecc..